含Si金刚石涂层的工艺研究

LIU Sutian,LIU Wei,HEI Lifu,TANG Weizhong,LV Fanxiu

Beijing Keji Daxue Xuebao/Journal of University of Science and Technology Beijing（2007）

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摘要

利用微波等离子体辅助化学气相沉积的方法,以H2、CH4和D4(八甲基环四硅氧烷)为沉积先驱物,探索了一种在硬质合金基底上制备出含Si元素的金刚石涂层的新工艺. 试图利用这种新的方法,进一步提高金刚石涂层对硬质合金基底的附着力. 实验结果表明:当D4的流量相对CH4的流量较大时,得到球团状的胞状组织;只有当D4和CH4的流量相当的情况下,才能沉积出质量较好的金刚石涂层,同时又含有少量的Si使金刚石涂层的附着力较好.

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关键词

Adhesion,Cemented carbide,Diamond coatings,Microwave plasma chemical vapor deposition (MPCVD),Octamethylcyclotetrasiloxane

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