Bi底层对FePt薄膜的影响

Chun Feng,Li Bao-He,Gang Han,Jiao Teng,Yong Jiang,Liu Quan-Lin,Yu Guang-Hua

Wuli Xuebao/Acta Physica Sinica（2006）

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摘要

利用磁控溅射的方法,在玻璃基片上制备了以Bi为底层的FePt薄膜,经不同温度真空热处理得到L10-FePt薄膜.研究了Bi做底层对FePt薄膜的有序化温度及矫顽力Hc的影响.实验结果表明:以Bi做底层的FePt薄膜在350 ℃实现低温有序,同时其Hc也有大幅度提高,并且可以在更大成分范围内获得Hc较高的L10-FePt薄膜.利用X射线光电子能谱研究了薄膜中Bi原子的分布情况,利用X射线衍射研究了薄膜的晶体学结构变化.结果表明,Bi底层在退火过程中的扩散促进了FePt薄膜有序度的升高.

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关键词

Diffusion,L1 0-FePt thin films,Ordering temperature,Underlayer

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