KZ-400离子束刻蚀装置的研制

Chaoyin Xu,Xiaohao Dong,Feiyun Zhao,Fei Gao,Dequan Xu,Liangjie Feng, Zuojian Yan,Jiwu Sun

Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology（2006）

引用 8|浏览7

暂无评分

摘要

日前我室为制作大口径(400 mm×400 mm)衍射光学元件需要,成功研制了一台KZ-400离子束刻蚀装置.它是基于物理溅射效应,将基底匀速扫描条形离子束,连续铣削材料的原子层来实现大面积刻蚀.通过对关键部位的有限元计算,分析影响装置性能的主要因素,优化工艺结构,使各项指标达到了设计要求,现已投入运行.

查看译文

关键词

Finite element analysis,Ion beam etching,Optimize design,Scanning motion,Uniformity of the beam density

AI 理解论文

溯源树

样例

生成溯源树，研究论文发展脉络

Chat Paper

正在生成论文摘要