化学镀铜Si基底上碳纳米管薄膜强流脉冲发射稳定性研究

Huali MA, Xinyue ZHANG,Fanguang ZENG,Ganping WANG,Fei XIANG

Guti Dianzixue Yanjiu Yu Jinzhan/Research and Progress of Solid State Electronics（2013）

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摘要

为了研究碳纳米管薄膜在强流连续多脉冲下的发射特性,采用酞菁铁高温热解方法在化学镀铜硅基底上生长了碳纳米管薄膜(Si/Cu-CNTs),作为强流脉冲发射阵列.在20 GW脉冲功率源系统中采用二极结构对Si/Cu-CNTs薄膜进行连续多脉冲高电流发射测试,结果表明:连续多脉冲情况下,峰值电场达到29.1 V/μm,发射电流密度为0.892 kA/cm2时,Si/Cu-CNTs薄膜仍具有良好的发射可重复性,连续发射的每个电流波形基本一致,发射稳定性好.

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关键词

Carbon nanotubes,Continuous intense pulsed emission,Electroless plated Cu,Stability

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