电流对多级弧放电装置中的氩等离子体特性影响的流体模拟

Junyuan Zhang,Peng Wang,Feng Chen,Weizhong Sun,Xiaodan Lv, Fujun Gou

Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology（2012）

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摘要

使用PLASIMO模拟了不同外加电流对多级弧放电产生的非热平衡下的氩等离子体特性的影响.在模拟中,腔体两端所加电流分别为30,50,70和90A;模拟结果表明,在模拟区域内,电子密度呈先增大后减小的趋势,并且随着外加电流的增加,中心轴线上出口处的电子密度、电子温度和重粒子温度均逐渐增大.电子的电导率和电子以及重粒子的热导率也随着外加电流的增加而增大.

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关键词

Argon plasma parameters,Electron density,Electron temperature,Fluid method,The cascaded arc

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