直流反应溅射沉积Al2O3薄膜及其在SS-AlN金属陶瓷太阳吸收涂层的应用
Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology（2012）
Abstract
在沉积不锈钢-氮化铝(SS-AlN)金属陶瓷太阳吸收集热管的磁控溅射三靶镀膜机上,安装了UPS03反应溅射闭环控制单元,实现反应溅射Al2O3稳定反馈控制.采用国产直流电源在Al靶表面处于过渡态下,成功制备了吸收几乎为零的Al2O3薄膜.溅射功率在14 kW时,反应溅射沉积Al2O3的靶电压波动可长时间稳定控制在±3V范围内,沉积速率为5.4 nm/(min·kW),约为Al靶在无反应气体溅射下沉积Al薄膜速率的74％.采用Al2O3代替AlN作为减反射层,应用到SS-AlN太阳选择性吸收涂层中,进一步提高了复合膜的太阳光学性能,太阳吸收比由AlN作为减反射层的0.956提高到0.965,红外发射比不变,仍为0.044.
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Key words
Al 2O 3 thin films,Close-loop control,Hysteresis,Reactive sputtering,Solar absorbing coatings,SS-AlN cermet
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