基底温度对电子束蒸发制备氧化铝薄膜的影响

WANG Song-lin,YANG Chong-min,ZHANG Jian-fu,LIU Qing-long,LI Ming,MI Gao-yuan,WANG Hui-na

Journal of Applied Optics（2013）

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摘要

为了考察基底温度对氧化铝薄膜折射率以及沉积厚度的影响情况,在不同基底温度环境下,通过离子辅助电子束蒸发方式,在玻璃基底上制备了同一Tooling因子条件下所监测到相同厚度的Al2O3薄膜,利用分光光度计测量光谱透过率,依据光学薄膜相关理论,计算了基底温度在25℃~300℃范围内获得的膜层实际物理厚度为275.611nm~348.447nm,以及膜层折射率的变化。通过对实验结果的数值计算和曲线模拟,给出了基底温度对于薄膜的折射率和实际厚度的影响情况。

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关键词

alumina thin films,optical constants of thin films,substrate temperature,ion-assisted electron beam evaporation

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