热处理对BiOx薄膜的组成和结构的影响
Information Recording Materials（2009）
Abstract
采用反应磁控溅射法在氧气和氩气比例为20:100的混合气体中制备了非化学计量的氧化铋薄膜.薄膜分别在真空和空气中400℃退火30min.采用X射线光电子能谱(XPS)和X射线衍射(XRD)研究了薄膜在真空和空气中退火对其组成和结构的影响.分析表明,在真空退火条件下薄膜中的金属铋和次氧化铋发生了相变,金属铋晶粒长大;而在空气中退火时薄膜主要发生了金属铋和次氧化铋的氧化过程,得到了四方Bi2O3.
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Key words
thin film,XPS,heat treatment,bismuth oxide,XRD
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