新型噁二唑类衍生物的合成及荧光光谱分析

为了开发高强度的有机电致发光材料,在吡唑的1位上引入苯基以及苯并噻唑基,在3位上引入芳基,在4位上引入醛基。用一步法合成了1,3,4-噁二唑,并通过Wittig反应将噁二唑与4-甲酰基吡唑相连合成了6种未见报道的口恶二唑类化合物,用红外光谱、质谱、核磁共振谱和元素分析对合成化合物进行了结构表征。用荧光光谱仪对它们的荧光性能进行了测试,所合成化合物的荧光性能较好,荧光发射波长在410~440nm之间,并且荧光量子产率最高能达到0.68。