钛合金表面非平衡磁控溅射沉积NiCoCrAlY涂层

采用非平衡磁控溅射技术在TC4钛合金表面沉积N iCoCrA lY抗烧蚀涂层,分析了不同溅射工艺下沉积涂层的微观结构以及对涂层组织的影响。结果表明:溅射沉积涂层成分主要与靶材成分均匀性有关,沉积涂层的成分与靶材成分基本一致;溅射过程中由于涂层表面不均匀的择优生长,造成涂层表面粗糙度有提高的趋势,涂层表面会产生大量的微米级的颗粒状突起以及出现少量直径约十几个微米的圆丘形突起,都呈现中心高、四周低的特征。实验制备涂层厚度在7~60μm之间,组织致密,厚度均匀,与基体结合良好,涂层增厚与溅射时间呈线性关系。XRD分析说明涂层表面主要是A lN i3,A l0.9N i4.22相,其他涂层元素以非晶态存在,随涂层沉积时间延长,涂层表面晶态结构发生破坏,涂层元素之间形成的化合物相趋于消失。