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在清言上使用

负偏压对PET上磁控溅射氧化铝薄膜的影响

Chinese Journal of Vacuum Science and Technology(2009)

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摘要
以PET(对苯二甲酸已二醇脂)为基体,采用磁控溅射方法在其上制备Al_2O_3阻隔膜,研究负偏压对基体温度、镀膜表面形貌和镀膜化学成份的影响。研究表明,基体温度随着负偏压的增加而升高;Al_2O_3薄膜的表面形貌随着负偏压的增加粗糙度显著降低。XPS分析表明薄膜是满足化学成分配比的Al_2O_3,而且薄膜的成分在较大的负偏压的范围内保持稳定;适当的负偏压有利于提高薄膜的阻隔性。
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关键词
Bias voltage,Al_2O_3 films,Magnetron sputtering
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