MPCVD金刚石膜装置中Ar的光谱特性分析
Physics Experimentation（2009）
摘要
在MPCVD装置中,通过调节微波功率、气体流量及反应压强,使用高分辨率的多道光学分析仪采集得到Ar的400~440 nm光谱,利用玻耳兹曼"斜率法"得到Ar激发温度Texc.结果显示:随气体流量增加Texc降低;随着微波功率的增加Texc升高;谱线强度随着功率的增加而上升,在550 W及700 W处开始降低继而又上升,此点是制备金刚石膜的功率关键点.
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关键词
spectral line intensity,diamond films,excitation temperature,MPCVD,emission spectrum
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