高真空磁场热处理装置及其温度控制器的设计与研制

介绍了高真空磁场热处理装置的结构、性能特点,并给出其相关参数。本装置可对炉腔直接抽真空,使磁场热处理过程更为简单。采用双温控器使炉腔内温度测控更为准确。设计过程中既保证炉腔内磁场(H_(max)=3kOe)、温度(T_(max)=800℃)要求,同时控制整套磁场热处理装置外形尺寸使其结构合理、紧凑。列举一例实际应用表明此套装置处理效果明显,性能良好。