新型恒速变向平动双面抛光机设计

常用行星式双面抛光机中工件及载体的内外缘速差会引起抛光垫变形,降低晶片平面度。本文设计了一种圆平动或摆动式新型双面抛光机,其工件平面相对于抛光盘的运动速度大小恒定,方向沿圆周轨迹的切线方向循序渐变,且能把抛光压力均匀压在载体内的工件上,该新型双面抛光机具有恒速变向抛光的优点,有较高的抛光效率和抛光精度,体积小,结构紧凑。