激光预处理ZrO2-SiO21064nm高反射膜的机理
Acta Optica Sinica（2010）
Abstract
分析了激光预处理对ZrO2-SiO2 1064 nm高反射膜激光损伤阈值以及引起损伤缺陷的影响.在以缺陷损伤阈值和缺陷密度表征缺陷的基础上,研究了预处理前后薄膜中引起损伤缺陷的变化情况.研究了激光预处理能量和预处理效果的关系.结果表明,激光预处理可以清除ZrO2-SiO2 1064 nm高反射膜中低阈值的缺陷,但预处理能量密度较高时,可以使薄膜中高阈值缺陷转化成低阈值缺陷.因此扫描预处理应采用相对较低的能量密度.
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Key words
defects density,defects threshold,laser technique,laser-conditioning,ZrO2-SiO2,laser-conditioning effects
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