Développement d'une source plasma-laser pour la lithographie dans l'extrême ultraviolet

Cet article presente notre role au sein du projet PREUVE (PRogramme Extreme UV), en particulier, le developpement et la caracterisation d'une source EUV plasma-laser. Cette source est basee sur l'utilisation du rayonnement EUV emis en face arriere d'une cible irradiee par laser. Le laser utilise possede les caracteristiques suivantes : energie de 2 J, duree d'impulsion de 7 ns et taux de repetition de 10 Hz. La cible est composee d'etain supporte par un film de mylar. Nous presentons ici les diagnostics developpes pour la caracterisation de cette source ainsi que les derniers resultats obtenus.