基质在热带兰栽培过程中的养分释放研究

采用PT法探究几种常见热带兰栽培基质有效氮、磷、钾释放及pH变化情况。结果表明:整个试验阶段所有处理基质pH变化在5.24～6.88,适合大多数花卉生长,水苔受外界环境影响最大,有着较大的pH变化,不适宜热带兰长期栽培。各基质的养分释放并不是按一定规律来进行,混合基质养分释放量低于纯基质,混合基质可以避免纯基质养分释放量大的弊端。NH4+-N的释放遵循类似"U"型曲线变化,火山石与松树皮混合有利于NO3--N的释放。前60d内,A与B处理磷的释放变化较大,60d后磷含量表现为下降变化,直至趋于平缓,不过混合基质整体磷含量水平较低。A与B处理的钾释放量分别在第15和45天降至平缓释放水平,以后一直维持在该平缓水平上释放钾。