一种无损测量多层半导体材料厚度的新方法

通过研究GaAs半导体材料厚度对量子效率的影响入手,提出一种利用分光光度计直接测量多层半导体厚度的新方法。根据光学干涉原理,将分光光度计测量出的反射率波谷值代入编写的JAVA程序进行计算,从而可直接得出多层半导体材料厚度,使用该方法得到的半导体层厚度误差<9%,满足测试精度要求。此方法可用于半导体外延片材料分析、工艺提高以及批量无损测量。