高密度ITO靶材烧结方法及发展趋势

Advanced Ceramics(2011)

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摘要
简要介绍了铟(In)的用途及国内铟产业的现状,对ITO薄膜的特性、应用领域及高密度ITO靶材溅射镀膜的优点进行了描述。重点对高密度ITO靶材的烧结工艺和成形方法的优缺点及发展现状进行了阐述。探讨了高密度ITO靶材生产技术的发展趋势。
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关键词
high density ITO target material,indium,transparent and conductive film,sintering method
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