斜角蒸镀光学薄膜工艺的研究

斜角蒸镀方法是制备光学薄膜的常用方法之一。试验证明,采用斜角蒸镀方法沉积薄膜,能改变薄膜晶体结构,从而使薄膜性能得到改变。在蒸发过程中,蒸发材料在基底上形成了倾斜的柱状结构薄膜,而且随着蒸镀过程入射角度的增加,薄膜柱状结构也发生了明显改变,本文结合试验结果对这些影响因素加以分析。通过控制薄膜生长的条件,包括沉积的材料和其它条件,能够将薄膜结构控制精确到10nm级别。在薄膜生长过称中,动量守恒和表面扩散作用是形成这种独特的柱状结构的主要原因。因此,如果能够采用工艺手段改变材料的结构来改变它的折射率,就能使光学薄膜的选材更加广泛,也能扩大光学薄膜应用范围。