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研究领域
主要从事金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统的研制以及用MOCVD系统生长半导体材料的研究。具体内容主要包括:(1)反应室的结构设计、模拟、仿真及虚拟制造技术;(2)系统的自动化、智能化控制技术和人机操作系统、数据记录与挖掘系统的设计与开发;(3)能提供闭环控制能力的在位监测系统的设计与制造;(4)MOCVD外延生长工艺开发、材料生长的热力学、动力学过程的理论与实验研究、模拟与仿真,同时开展材料生长的计算机实验技术研究。(5)MOCVD装备的稳定性、重复性、可靠性测试分析技术与保障系统的研究;
主要从事金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统的研制以及用MOCVD系统生长半导体材料的研究。具体内容主要包括:(1)反应室的结构设计、模拟、仿真及虚拟制造技术;(2)系统的自动化、智能化控制技术和人机操作系统、数据记录与挖掘系统的设计与开发;(3)能提供闭环控制能力的在位监测系统的设计与制造;(4)MOCVD外延生长工艺开发、材料生长的热力学、动力学过程的理论与实验研究、模拟与仿真,同时开展材料生长的计算机实验技术研究。(5)MOCVD装备的稳定性、重复性、可靠性测试分析技术与保障系统的研究;
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Z. H. Zhang,L. T. Yang,Q. Yue,K. J. Kang,Y. J. Li, H. P. An,Greeshma C.,J. P. Chang,Y. H. Chen,J. P. Cheng,W. H. Dai,Z. Deng,
arxiv(2024)
Cited0Views0Bibtex
0
0
PHYSICAL REVIEW LETTERSno. 17 (2024): 171001-171001
ACS PHOTONICSno. 5 (2024): 2045-2053
arxiv(2024)
Cited0Views0Bibtex
0
0
PHYSICAL REVIEW Dno. 5 (2023)
arXiv (Cornell University) (2023)
ACS Photonicsno. 12 (2023): 4401-4407
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