ZHANG Shiquan(张世权)No.58 Research Institute China Electronics Technology Group Corporation关注立即认领分享关注立即认领分享基本信息浏览量:0职业迁徙个人简介暂无内容研究兴趣论文共 6 篇作者统计合作学者相似作者按年份排序按引用量排序主题筛选期刊级别筛选合作者筛选合作机构筛选时间引用量主题期刊级别合作者合作机构多晶电阻工艺监控与影响因素研究张世权,马慧红,吴晓鸫电子与封装(2015)引用0浏览0引用00Research of Polycrystalline Silicon Resistance Processing Monitor and Influencing FactorZhang ShiquaElectronics & Packaging(2015)引用23浏览0引用230RRC工艺涂胶胶厚均匀性优化研究江月艳,张世权电子与封装(2014)引用1浏览0引用10台阶处光刻工艺的优化与研究贺琪,张世权,刘国柱电子与封装(2013)引用0浏览0引用00不同衬底材料对光刻胶剖面的影响张世权,朱斌,顾霞电子与封装(2013)引用0浏览0引用00PECVD法氮化硅薄膜制备工艺的研究 汪文君,孙建洁,朱赛宁,张世权电子与封装(2013)引用0浏览0引用00作者统计合作学者合作机构D-Core合作者学生导师暂无相似学者,你可以通过学者研究领域进行搜索筛选数据免责声明页面数据均来自互联网公开来源、合作出版商和通过AI技术自动分析结果,我们不对页面数据的有效性、准确性、正确性、可靠性、完整性和及时性做出任何承诺和保证。若有疑问,可以通过电子邮件方式联系我们:report@aminer.cn