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Photomask Japan 2021: XXVII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology (2021)
Sentaro Aihara, Noburu Takakura, Fuma Kizu,Satoru Jimbo, Koji Ishibashi,Junichi Seki,Yuichiro Oguchi,Toshiya Asano,Yoichi Matsuoka,Masahiro Tamura,Osamu Morimoto
https://doi.org/10.1117/12.2584720 (2021): 1161007
PHOTOMASK JAPAN 2017: XXIV SYMPOSIUM ON PHOTOMASK AND NEXT-GENERATION LITHOGRAPHY MASK TECHNOLOGY (2018)
PHOTOMASK TECHNOLOGY 2016 (2016)
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