获奖及荣誉：
主要学术成绩：
1. 液态半导体原子结构的X射线吸收精细结构谱研究：发展了一种有效的液态物质X射线吸收谱测量方法，并率先将反蒙特卡洛方法用于液态实验数据分析，揭示了半导体材料固液转变过程中半导体-金属转变机理。相关研究工作发表在国际著名物理学刊物Phys. Rev. Lett. 上（Y. R. Wang et al, Phys. Rev. Lett., 79(1997)3664），论文被引39次，其中他引29次。国际著名XAFS研究专家、意大利dell’Aquilla 大学 A. Filipponi 教授在其撰写的液体EXAFS研究综述文章中，对我们上述结果进行了整段评述，并在文中引用了我们三篇相关文章。

2. 单晶硅熔凝过程中固液界面形貌及微缺陷形成研究：单晶硅是半导体产业中的支柱性材料。我们采取X射线形貌学方法，对单晶硅熔凝过程中固液界面形貌变化及界面附近位错形成过程进行了系统地实验研究，试图找出无DASH NECKING过程的新单晶生长方法。创新点：为解释晶体熔化过程与位错形成关系这一基本问题，提供了世界上少数几个有关的直接实验证据之一。相关研究论文有5篇相继发表在国际著名材料类、应用物理类学术刊物 J. Crystal Growth、J. Appl. Phys.、Materials Engineering上。其中发表在2000年JCG上的文章单篇被引次数为7次。