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Feifei Yang,Arun Madan,Z Zhu,Rainer Loesing,Robert F Murphy,Thomas N Adam,Linda Black,Judson R Holt, Eric C Harley,Matthew W Stoker,Dominic J Schepis, Xin Chen,
ADVANCED GATE STACK, SOURCE/DRAIN, AND CHANNEL ENGINEERING FOR SI-BASED CMOS 6 NEW MATERIALS, PROCESSES, AND EQUIPMENTno. 1 (2010): 63-71
Electrochemical and Solid State Lettersno. 1 (2010)
K. Cheng,Ali Khakifirooz, P V Kulkarni, S. Kanakasabapathy,Stefan Antonius Schmitz,Alexander Reznicek,T. Adam,Y. Zhu,J. Li,Johnathan E Faltermeier, Taisuke Furukawa,Lisa F Edge,
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