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Ashima B Chakravarti, Jacob B Dadson,Paul J Higgins, Babar A Khan, John J Moore, Christopher C Parks,Rohit Takalkar
mag(2012)
引用24浏览0引用
24
0
Feifei Yang,Arun Madan,Z Zhu,Rainer Loesing,Robert F Murphy,Thomas N Adam,Linda Black,Judson R Holt,Eric C Harley,Matthew W Stoker,Dominic J Schepis, Xin Chen,
ADVANCED GATE STACK, SOURCE/DRAIN, AND CHANNEL ENGINEERING FOR SI-BASED CMOS 6 NEW MATERIALS, PROCESSES, AND EQUIPMENTno. 1 (2010): 63-71
Nauman Z Butt,Kevin Mcstay,Alberto Cestero,Howard Ho,W Kong,S Fang,R S Krishnan,Babar A Khan, A Tessier, W Davies,S Lee, Yaping Zhang,
Electron Devices Meetingpp.27.5.1-27.5.4, (2010)
Zhibin Ren,G. Pei,J. Li,B. (F). Yang,R. Takalkar,K. Chan,G. Xia,Z. Zhu,A. Madan,T. Pinto,T. Adam, J. Miller,
Honolulu, HIpp.135-+, (2008)
SIGE, GE, AND RELATED COMPOUNDS 3: MATERIALS, PROCESSING, AND DEVICESno. 10 (2008): 325-+
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