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JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICSno. SI (2023): SI0801-SI0801
Meihua Shen,John Hoang,Chi Hao,Danna Qian,George Papasouliotis,Jonathan Church,Pramod Subramonium,Eric Hudson, Leonid Belau, Katherine Haynes, Matt Weimer,Puthenkovilakam Ragesh,
Advanced Etch Technology and Process Integration for Nanopatterning X (2021): 1161508
Jason Haverkamp,Pramod Subramonium,Joseph L Womack,Dong Niu,Keith Fox, John Alexy, Patrick Breiling,Jennifer Oloughlin,Mandyam Sriram,G A Antonelli,Bart Van Schravendijk
mag(2015)
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mag(2015)
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mag(2014)
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mag(2014)
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mag(2013)
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