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Natalia V. Davydova,Vincent Wiaux, Joost Bekaert,Frank J. Timmermans, Bram Slachter,Tatiana Kovalevich, Eelco van Setten, Marcel Beckers, Simon van Gorp,Rongkuo Zhao, Dezheng Sun,Ming-Chun Tien,
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2022 (2022)
Y.L. Li, Falconee Lee,Kevin Liang,Kate Tzeng,Ming Tien, Donghan Wu,Bryant Tsai,Patt Chang, Jim Tseng,Shijuan Qin
2022 IEEE International Symposium on Electromagnetic Compatibility & Signal/Power Integrity (EMCSI)pp.546-548, (2022)
Will Conley, Vince Plachecki,Stephen Hsu, Michael Crouse,Rongkuo Zhao, John He,Pieter Scheijgrond,Dezheng Sun, Xiaoyang Li,Dongqing Zhang,Ming-Chun Tien, Jun Ye,
Optical Microlithography XXXIV (2021)
Vincent Wiaux,Joost Bekaert,Tatiana Kovalevich,Julien Ryckaert,Eric Hendrickx,Natalia Davydova, Pieter Woltgens,Ming-Chun Tien, Laurens de Winter,Mark John Maslow, Kars Zeger Troost
Extreme Ultraviolet Lithography 2020 (2020): 76-83
Boo-Hyun Ham,Il-hwan Kim, Sung-Sik Park, Sun-Young Yeo,Sang-Jin Kim,Dong-Woon Park,Joon-soo Park, Chang-Hoon Ryu, Bo-Kyeong Son,Kyung-Bae Hwang, Jae-Min Shin, Jangho Shin,
mag(2013)
引用23浏览0引用
23
0
MULTIMEDIA ANALYSIS, PROCESSING AND COMMUNICATIONS (2011): 413-441
Jared F Bauters, M Heck,Demis D John,Mingchun Tien,Wenzao Li, Jon S Barton,Daniel J Blumenthal,John E Bowers,Arne Leinse, R G Heideman
mag(2011)
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