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Deep Learning for the Analysis of X-ray Scattering Data from High-Aspect Ratio Structures
Andrei Baranovskiy, Inbar Grinberg, Michael G. Greene, Yehonatan Amasay,Matthew Wormington
METROLOGY, INSPECTION, AND PROCESS CONTROL XXXVII (2023)
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Inline metrology of high aspect ratio hole tilt and center line shift using small-angle x-ray scattering
Peter Gin,Matthew Wormington, Yehonatan Amasay, Inbar Grinberg,Alexander Brady, Israel Reichental,Kevin Matney,Jin Zhang,Osman Sorkhabi
JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3no. 3 (2023)
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Model-free measurement of lateral recess in gate-all-around transistors with micro hard-X-ray fluorescence
Janusz Bogdanowicz, Yusuke Oniki,Karine Kenis, Pallavi Puttarame Gowda,Hans Mertens, Basel Shamieh, Yonatan Leon,Matthew Wormington, Juliette Van der Meer,Anne-Laure Charley
JOURNAL OF MICRO-NANOPATTERNING MATERIALS AND METROLOGY-JM3no. 3 (2023)
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X-ray critical dimension metrology solution for high aspect ratio semiconductor structures
Matthew Wormington,Adam Ginsburg, Israel Reichental,Alex Dikopoltsev, Alex Krokhmal, Yuri Vinshtein,Paul Ryan,Rahul Korlahalli,Franklin Wong, Silvio Rabello, Yang Song,Jie Li
Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV (2021): 150-159
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