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Some aspects on mechanisms responsible for contamination of optical components in DUV lithographic exposure tools
Hans Fosshaug,Mats Ekberg, Gunnar Kylberg
PROCEEDINGS OF THE SOCIETY OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS (SPIE) (2005): 1601-1628
引用9浏览0引用
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Influence of writing strategy on CD control for the spatial-light-modulator-based Sigma7300 DUV laser pattern generator
Hans Fosshaug, Per Askebjer,Johan Karlsson,Adisa Bajramovic,Kezhao Xing, Robert Eklund, Jonathan Walford,Mats Ekberg,Peter Hogfeldt, Thomas Ùstr÷m
SPIE ProceedingsAdvances in Resist Technology and Processing XXI (2004): 879-894
引用1浏览0引用
1
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DOE manufacture with the DUV SLM-based Sigma7300 laser pattern generator
Peter Bj Rnngen,Mats Ekberg, Thomas Ustr M,Hans Fosshaug,Johan Karlsson, Charles Bj Rnberg,Fredrik Nikolajeff,Mikael Karlsson
Proceedings of SPIE (2004): 1866-1875
引用1浏览0引用
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0
Meeting airborne molecular contamination challenges in laser pattern generators
M Ekberg, PU Skotte,T Utterback, O Kishkovich, D Ruede, J Higley, VL Orkin
MICROno. 1 (2004): 47-+
引用0浏览0引用
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0
Laser Pattern Generator Challenges In Airborne Molecular Contamination Protection
Mats Ekberg,Peruno Skotte,Tomas Utterback, Swaraj Paul, Oleg P Kishkovich, James S Hudzik
PHOTOMASK AND NEXT-GENERATION LITHOGRAPHY MASK TECHNOLOGY X (2003): 318-327
引用3浏览0引用
3
0
A PHOTOCONDUCTIVE SWITCH
Hans Bernhoff,Mats Ekberg,Jan Isberg,Anders Sunesson, K E Oeberg,Peter Isberg, Pan Min, Erik Johansson, Mark Irwin
mag（2002）
引用23浏览0引用
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