基本信息
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Career Trajectory
Bio
罗锋博士2010年12月加入马德里高等研究院纳米研究所,2013年12月提前获得研究教授(终身教职副教授),2016年6月晋升为资深研究教授(终身教职正教授),2021年1月全职加入南开大学材料科学与工程学院任讲席教授。罗锋博士主要研究方向为:集成电路相关多项产业技术包括可靠性保护技术、可靠性失效分析技术、超低功耗设计技术、传感器芯片设计技术;在微加工技术与精密制造/先进纳加工技术等均取得代表性的工作;主持西班牙杰出青年基金,西班牙面上基金和参与中国基金委重大项目,基金委纳米制造重大计划。本课题组在工业应用领域关注于超高密度的磁存储如硬盘(HDD),非易失性(Non-Volatile)的磁性随机存储(MRAM)的关键技术以及微机电系统/纳机电系统(MEMS/NEMS)磁光/磁电传感器阵列技术。与硬盘企业希捷(Seagate) 日立全球技术中心/西部数据(Hitachi GST/West Digital);磁性随机存储研究机构比利时微电子中心(IMEC)/法国能源署信息技术实验室磁自旋技术部(CEA-LETI-SPINTEC)以及企业 eVaderis/Leuven Instruments/上海磁宇;半导体企业华为,小米,磁电传感器公司 Crocus/Hprobe;与纳米压印公司 GermanLitho等均保持紧密的合作伙伴关系。
研究方向
1)超低功耗自旋芯片/自旋电子学的新材料/器件/晶圆超高密度阵列制造工艺;基于磁电/磁光器件所特有的4D电镜和同步辐射光源的原位表征方法;
2)8/12英寸极紫外光刻/纳米压印光刻关键工艺技术与装备;半导体清洗与刻蚀关键工艺与装备;晶圆级微纳加工与制造新方法学/微纳混合制造工艺开发;
3)低功耗高端电源管理芯片/车规级/宇航级超低静态电流高端智能电源管理芯片;聚焦静电放电ESD的集成电路可靠性设计测试失效分析技术和Sub 20nm芯片XCT无损检测;
4)极紫外光刻技术光刻胶制造与评估,化学/物理沉积制备5nm工艺节点以下极紫外光刻胶及其在磁存储芯片工艺上的验证;极紫外光学设计与成像,掩膜设计与制造,掩膜检测,计算光学
研究方向
1)超低功耗自旋芯片/自旋电子学的新材料/器件/晶圆超高密度阵列制造工艺;基于磁电/磁光器件所特有的4D电镜和同步辐射光源的原位表征方法;
2)8/12英寸极紫外光刻/纳米压印光刻关键工艺技术与装备;半导体清洗与刻蚀关键工艺与装备;晶圆级微纳加工与制造新方法学/微纳混合制造工艺开发;
3)低功耗高端电源管理芯片/车规级/宇航级超低静态电流高端智能电源管理芯片;聚焦静电放电ESD的集成电路可靠性设计测试失效分析技术和Sub 20nm芯片XCT无损检测;
4)极紫外光刻技术光刻胶制造与评估,化学/物理沉积制备5nm工艺节点以下极紫外光刻胶及其在磁存储芯片工艺上的验证;极紫外光学设计与成像,掩膜设计与制造,掩膜检测,计算光学
Research Interests
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By YearBy Citation主题筛选期刊级别筛选合作者筛选合作机构筛选
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合作者
合作机构
Hao Chen, Yifeng Peng, Haichao Fu,Fuping Han, Guangyue Shi,Feng Luo,Jun Zhao,Danhong Zhou,Pengzhong Chen,Xiaojun Peng
Wei Ai, Fuyang Chen,Zhaochao Liu, Xixi Yuan,Lei Zhang,Yuyu He,Xinyue Dong,Huixia Fu,Feng Luo,Mingxun Deng,Ruiqiang Wang,Jinxiong Wu
Jiabiao Chen,Zhaochao Liu, Zunxian Lv,Yameng Hou,Xiang Chen, Lan Lan,Tong-Huai Cheng,Lei Zhang,Yingnan Duan,Huixia Fu,Xuewen Fu,Feng Luo,
Journal of the American Chemical Society (2024)
Huarong Yang,Tong‐Huai Cheng, Huijia Ouyang,Qian Xin,Yiyuan Liu, Miao Meng,Hua Yu Feng,Feng Luo,Wenxiang Mu,Zhitai Jia,Xutang Tao
Advanced Optical Materialsno. 9 (2024)
Jiabiao Chen,Zhaochao Liu, Zunxian Lv,Yameng Hou,Xiang Chen, Lan Lan,Tong-Huai Cheng,Lei Zhang,Yingnan Duan,Huixia Fu,Xuewen Fu,Feng Luo,
IEEE JOURNAL OF SOLID-STATE CIRCUITSno. 99 (2024): 1-11
Huarong Yang,Tong-Huai Cheng, Huijia Ouyang,Qian Xin,Yiyuan Liu, Miao Meng,Hua Yu Feng,Feng Luo,Wenxiang Mu,Zhitai Jia,Xutang Tao
ADVANCED OPTICAL MATERIALSno. 9 (2024)
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