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Semiconductor device, memory cell, and processes for forming them
Craig S Lage, Mousumi Bhat,Y T Lii,Andrew G Nagy,Larry E Frisa,S Filipiak,D Omeara,T P Ong,Michael P Woo, Terry G Sparks, Carol M Gelatos
mag（2004）
引用26浏览0引用
26
0
Method for removing particles from a semiconductor processing tool
Larry E Frisa, Scott S Kellogg, Grant W Mcewan, Michael N Montgomery, Iraj Eric Shahvandi
mag（2004）
引用25浏览0引用
25
0
CMOS semiconductor devices and method of formation
Bikas Maiti,Philip J Tobin, C Joseph Mogab, C Hobbs,Larry E Frisa
mag（1998）
引用130浏览0引用
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A Self-Aligned Silicide Process Technology For Sub-0.25 Mu M Geometries
Ted R White, Dave Kolar, Mohamed Jahanbani,Larry E Frisa,Rajan V Nagabushnam,Harry Chuang,Paul Tsui, Jeff Cope, Larry Pulvirent,Scott Bolton
MICROELECTRONIC DEVICE TECHNOLOGY II (1998): 112-119
引用1浏览0引用
1
0
Control of PVD TiN thickness measurements
Leo Asinovsky,Larry E. Frisa
Microelectronic Engineeringno. SP1-4 (1997): 427-432
引用3浏览0EI引用
3
0
SKM ion source
Larry E Frisa,Monroe L King,S E Sampayan
mag（1990）
引用23浏览0引用
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