Keiichi HamanakaDept Precis Sci & Technol Osaka Univ关注立即认领分享关注立即认领分享基本信息浏览量:1职业迁徙个人简介暂无内容研究兴趣论文共 3 篇作者统计合作学者相似作者按年份排序按引用量排序主题筛选期刊级别筛选合作者筛选合作机构筛选时间引用量主题期刊级别合作者合作机构The Effect Of Pretreatment For Sih4 Gas By Microwave Plasma On Si Film Formation Behavior By Thermal CvdKeiichi Hamanaka, Norihisa Takei,Hiroaki Kakiuchi,Kiyoshi Yasutake,Hiromasa OhmiPLASMA PROCESSES AND POLYMERS(2020)引用1浏览0引用10On-site Si 2 H 6 gas generation from solid Si by hydrogen plasmaKeiichi Hamanaka,Taniguchi Daisuke,Hiroaki Kakiuchi,Kiyoshi Yasutake,Hiromasa OhmiThe Japan Society of Applied Physics(2020)引用0浏览0引用00Plasma reforming of SiH 4 gas toward low temperature formation of crystalline Si filmKeiichi Hamanaka,Hiroaki Kakiuchi,Kiyoshi Yasutake,Hiromasa OhmiThe Japan Society of Applied Physics(2019)引用0浏览0引用00作者统计合作学者合作机构D-Core合作者学生导师暂无相似学者,你可以通过学者研究领域进行搜索筛选数据免责声明页面数据均来自互联网公开来源、合作出版商和通过AI技术自动分析结果,我们不对页面数据的有效性、准确性、正确性、可靠性、完整性和及时性做出任何承诺和保证。若有疑问,可以通过电子邮件方式联系我们:report@aminer.cn