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Scanner and etch co-optimized corrections for better overlay and CD control
Ik-Hyun Jeong, Seung-Woo Koo,Hyun-Sok Kim,Jae-Wuk Ju,Young-Sik Kim, Yong-Tae Cho, Heung-Joo Kim,Katja Viatkina, Tom van Hemert, Ruud de Wit, David Deckers,Owen Chen,
ADVANCED ETCH TECHNOLOGY FOR NANOPATTERNING VIII (2019)
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Improved Wafer Alignment Model Algorithm for better On-Product Overlay
Ik-Hyun Jeong,Hyun-Sok Kim, Yeong-Oh Kong, Ji-Hyun Song,Jae-Wuk Ju,Young-Sik Kim,Cees Lambregts, Miao Yu, Rizvi Rahman, Leendertjan Karssemeijer, Elliott McNamara, Paul Bocker,
Proceedings of SPIE (2019)
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Unique method for controlling device level overlay with high NA optical overlay technique using YieldStar in a DRAM HVM environment
Dong-Kiu Park,Hyun-Sok Kim,Moo-Young Seo,Jae-Wuk Ju,Young-Sik Kim, Mir Shahrjerdy, Arno van Leest, Aileen Soco,Giacomo Miceli,Jennifer Massier, Elliott Mc Namara, Paul Hinnen,
Proceedings of SPIE (2018): 190-198
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