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G. Schelcher,E. P. De Poortere, N. Kissoon,S. Paolillo,Marsil de A. Costa E. Silva, Y. Zhang,C. Tabery,J. Mulkens, M. McManus, P. Leray, S. Halder
International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2022 (2022)
Nicola Kissoon, Etienne de Poortere,David Hellin,Stefan Decoster,Gayle Murdoch, Stephane Lariviere,Elisabeth Camerotto,Sandip Halder,Philippe Leray, Malgorzata Jurczak,Guillaume Schelcher
Metrology, Inspection, and Process Control for Semiconductor Manufacturing XXXV (2021)
Cyrus E. Tabery,Vito Rutigliani,Hastings Simon Philip Spencer, Etienne de Poortere, Luke wang,Philippe Leray,Guillaume Schelcher, Yongjun Wang
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII (2019)
Sayantan Das,Joey Hung, Sandip Halder,Guillaume Schelcher,Roy Koret,Igor Turovets,Mohamed Saib, Anne-Laure Charley,Matthew Sendelbach, Avron Ger,Philippe Leray
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XXXIII (2019): 674-674
Mark John Maslow,Vadim Timoshkov, Ton Kiers,Tae Kwon Jee, Liesbeth Reijnen,Kaushik Kumar,Marc Demand,Carlos Fonseca, Florin Cerbu,Guillaume Schelcher,Christophe Beral
Proceedings of SPIE (2018)
Microelectronic Engineeringno. 1 (2013): 39-44
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