基本信息
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个人简介
Gabriël Sengo received the B.Sc. degree in applied physics from the Polytechnic of Enschede, Enschede, The Netherlands, in 1995.
After having been active in industry for a number of years, he joined as a Technician the Integrated Optical Micro Systems Group, MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, Enschede. He specializes in lithography and reactive ion etching.
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