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High Volume Manufacturing Ramp In 90nm Dual Stress Liner Technology
R Gehres, R J Malik,R Amos, Jeffrey J Brown,Shahzad Ahmad Butt, Andrew Chan, C B Collins, B Colwill, Byron Davies, Andrew M Gabor,Nguyenthinh Le,P Lindo,
2006 IEEE/SEMI ADVANCED SEMICONDUCTOR MANUFACTURING CONFERENCE AND WORKSHOP（2006）
引用6浏览0EIWOS引用
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A high performance 90nm SOI technology with 0.992 μm/sup 2/ 6T-SRAM cell
M. Khare,S.H. Ku, R.A. Donaton,S. Greco,C. Brodsky, X. Chen,A. Chou, R. DellaGuardia, S. Deshpande,B. Doris,S.K.H. Fung,A. Gabor,
Digest. International Electron Devices Meeting,
引用26浏览0引用
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