Da Hee HongDepartment of Advanced Materials Engineering Tech University of Korea关注立即认领分享关注立即认领分享基本信息浏览量:0职业迁徙个人简介暂无内容研究兴趣论文共 2 篇作者统计合作学者相似作者按年份排序按引用量排序主题筛选期刊级别筛选合作者筛选合作机构筛选时间引用量主题期刊级别合作者合作机构Characteristics of Hf 0.5 Zr 0.5 O 2 Thin Films Prepared by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition for Application to Ferroelectric MemoryDa Hee Hong,Jae Hoon Yoo,Won Ji Park,So Won Kim,Jong Hwan Kim,Sae Hoon Uhm,Hee Chul LeeNanomaterials (Basel, Switzerland)no. 5 (2023): 900-900引用1浏览0WOS引用10Effect of Process Temperature on Density and Electrical Characteristics of Hf0.5Zr0.5O2 Thin Films Prepared by Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition Hak-Gyeong Kim,Da-Hee Hong,Jae-Hoon Yoo,Hee-Chul LeeNANOMATERIALS(2022)引用8浏览0WOS引用80作者统计合作学者合作机构D-Core合作者学生导师暂无相似学者,你可以通过学者研究领域进行搜索筛选数据免责声明页面数据均来自互联网公开来源、合作出版商和通过AI技术自动分析结果,我们不对页面数据的有效性、准确性、正确性、可靠性、完整性和及时性做出任何承诺和保证。若有疑问,可以通过电子邮件方式联系我们:report@aminer.cn