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PHOTOMASK AND NEXT-GENERATION LITHOGRAPHY MASK TECHNOLOGY X (2003): 990-1004
PROCEEDINGS OF THE SOCIETY OF PHOTO-OPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS (SPIE) (2002): 266-276
H. N. Chapman,A. K. Ray-Chaudhuri,D. A. Tichenor,W. C. Replogle,R. H. Stulen,G. D. Kubiak,P. D. Rockett,L. E. Klebanoff,D. O’Connell,A. H. Leung, K. L. Jefferson, J. B. Wronosky,
Da Tichenor,Ak Ray-Chaudhuri,Sh Lee,Hn Chapman, Wc Replogle,Kw Berger,Rh Stulen,Gd Kubiak,Le Klebanoff, Jb Wronosky, Dj O'Connell,Ah Leung,
SOFT X-RAY AND EUV IMAGING SYSTEMS II (2001): 9-18
SPIE Proceedings20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology (2001)
作者统计
#Papers: 8
#Citation: 520
H-Index: 7
G-Index: 8
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合作机构
D-Core
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